| 1 |
|
Cathodic Arc Synthesis of Ti-Si-C-N Thin Films. Plasma Analysis and Microstructure Formation: дис. ... / A. Eriksson. — Linköping: Linköping University, 2012. — 151 p.: il. — (Linköping Studies in Science and Technology. Dissertations). — Ind.: p. 447-449. — ISBN 978-91-7519-714-2.
|
| 2 |
|
Пучки распыляющих ионов : получение и применение: монография / А. П. Семенов ; науч. ред. Г. А. Месяц; Бурятский научный центр СО Рос. АН, Отдел физических проблем. — Улан-Удэ: БНЦ СО РАН, 1999. — 207 с.: ил., табл. — ISBN 5-7925-0049-5: 10.86 р.
|
| 3 |
|
Наноструктурированные слои и тонкие пленки на основе оксида цинка: автореферат дис. ... канд. техн. наук : 01.04.07 / Д. В. Исмаилов ; науч. рук. А. П. Ильин, офиц. оппоненты : П. М. Плетнев, Л. П. Борило; Нац. исслед. Томский политехнический ун-т, Юго-Западный гос. ун-т. — Томск, 2018. — 24 с. — На правах рукописи. — Библиогр.: с.23-24.
|
| 4 |
|
International Conference on Coatings on Glass (ICCG): High-Performance Coatings for Transparent Systems in Large-Area and/or High-Applications : Proceedings. — Amsterdam: Elsevier, 1998. — 466 с.: ill. — Bibliogr. at the end of the art. — Auth., subject ind.: p.458-466. — ISBN 0-444-50247-5: 4171.00 р.
|
| 5 |
|
Высокотемпературная сверхпроводимость (Актуальные проблемы) : межвед. сб. / Ленинградский гос. ун-тет им. А. А. Жданова ; под ред. А. А. Киселева. — Б. м. , 1989,.
Вып. 3 :. — Л.: Издательство Ленинградского университета, 1991. — 248 с.: ил. — Библиогр. в конце ст. — 3.60 р.
|
| 6 |
|
Физика тонких пленок. — М.; : Мир , Б.г.
Т. IV : Cовременное состояние исследований и технические применения / под общ. ред. Г. Хасса, Р. Э. Туна , пер. с англ. В. Б. Сандомирского, А. Г. Ждана. — , 1970. — 440 с.: ил. — Библиогр. в конце ст. — Авт. указ.: с. 437. — 2.10 р.
|
| 7 |
|
Физика тонких пленок. — М.; : Мир , Б.г.
Т. V : Cовременное состояние исследований и технические применения / под общ. ред. Г. Хасса, Р. Э. Туна , пер. с англ. В. Б. Сандомирского, А. Г. Ждана. — , 1972. — 344 с.: ил. — Библиогр. в конце ст. — 1.70 р.
|
| 8 |
|
Физика тонких пленок. — М.; : Мир , Б.г.
Т. VI : Cовременное состояние исследований и технические применения / под общ. ред. М. Х. Франкомба, Р. У. Гофмана, пер. с англ. В. Б. Сандомирского, А. Г. Ждана. — , 1973. — 392 с.: ил. — Библиогр. в конце ст. — Авт. указ.: с. 389. — 2.12 р.
|
| 9 |
|
Thin film materials technology: Sputtering of compound materials / K. Wasa, M. Kitabatake, H. Adachi. — Norwich: William Andrew, 2004. — 518 с.: ill. — (Related electronic materials and process technology). — Bibliogr. at the end of the chapters. — Ind.: p. 501-518. — ISBN 3-540-21118-7: 5680.00 р.
|
| 10 |
|
Магнетронные распылительные системы / А. И. Кузьмичёв. — Киев; : Аверс , Б.г.
Кн. 1 : Введение в физику и технику магнетронного распыления. — , 2008. — 244 с.: ил. — Библиогр.: с. 215-244. — ISBN 966-8934-07-5.
Рассмотрены физические основы магнетронного распыления и разновидности магнетронных систем для нанесения тонких плёнок и покрытий различного назначения, в том числе системы с усиленной ионизацией газовой среды и импульсные магнетронные распылительные системы. Для научных и инженерно-технических работников, аспирантов и студентов высших технических заведений, специализирующихся в области электронных физико-технических устройств и ионно-плазменных технологий для электроники, оптики и машиностроения.
|