Квантовые компьютеры, микро- и наноэлектроника: физика, технология, диагностика и моделирование: [сб. ст.] / отв. ред. А. А. Орликовский. — М.: Наука, 2005. — 414,[1] с.: ил.; 24 см. — (Труды ФТИАН / Рос. акад. наук, Физ.-технол. ин-т ; гл. ред. К. А. Валиев, 0868-7129). — Библиогр. в конце ст. — ISBN 5-02-033950-4: 194.00 р.

Functional Thin Films and Functional Materials: New Concepts and Technologies / ed. D. Shi. — Berlin: Springer, 2003. — 443 с.: ill. — (Springer series in materials science). — Bibliogr. at the end of the chapters. — ISBN 3-540-00111-5: 5094.11 р.

Thin film materials technology: Sputtering of compound materials / K. Wasa, M. Kitabatake, H. Adachi. — Norwich: William Andrew, 2004. — 518 с.: ill. — (Related electronic materials and process technology). — Bibliogr. at the end of the chapters. — Ind.: p. 501-518. — ISBN 3-540-21118-7: 5680.00 р.

Техника распыления ионными пучками: монография / А. П. Семенов ; отв. ред. Ю. Л. Ломухин ; Рос. АН, Сиб. отд-ние, Бурятский научный центр, Ин-т естественных наук СО РАН. — Улан-Удэ: БНЦ СО РАН, 1996. — 120 с.: ил., табл. — ISBN 5-7623-1110-4: 8.58 р.

Фотоэмиссионные свойства тонких пленок антимонидов щелочных металлов, сконденсированных в условиях сверхвысокого вакуума: автореферат дис. ... канд. техн. наук : 01.04.07 / И. А. Нестеров ; науч. рук. В. М. Геллер, науч. конс. А. Б. Беркин, офиц. оппоненты: В. Н. Брудный, С. Н. Янин; Новосибирский государственный технический университет (Новосибирск), Центральный научно-исследовательский институт "Электрон" (СПб.), Томский политехнический университет (Томск). — Томск, 2009. — 24 с. — На правах рукописи. — Для служебного пользования. — Библиогр.: с. 21-24.