Модификация приповерхностных слоев n-кремния ионами водорода в высоковольтном импульсном разряде пучкового типа: научное издание / В. П. Демкин, С. В. Мельничук, Б. С. Семухин; Институт физики прочности и материаловедения СО РАН (Томск), Томский государственный университет (Томск) //
М. ; СПб.
Проведено микролегирование приповерхностных слоев n-кремния ионами водорода в плазме пучкового типа. Изучены зависимости удельного сопротивления и тока проводимости от времени легирования водородом. Обнаружено наличие фотоэдс у модифицированного кремния. Дан качественный анализ полученных результатов.