В реакции каталитического синтеза ацетонитрила аммонолизмом уксусной кислоты рассмотрено влияние температуры реактора, соотношения реагентов (аммиака и уксусной кислоты), состава реакционной смеси и промотирования оксида алюминия фосфорной кислотой на селективность и производительность по целелвому продукту. Предложена кинетическая модель лимитирующей стадии реакции - дегидратации ацетамида до ацетонитрила. Показано, что использование промотированных катализаторов, соотношения NH2:CH3COOH=(3+4):1 при температуре реактора 360-400 оС в процессе аммонолиза уксусной кислоты позволяет достичь производительность по ацетонитрилу 700-800 кг/(м3*ч) и снизить образование побочных продуктов до 0,1 % на прореагировавшую кислоту.

Проведен совместный крекинг бурого угля и мазута, изучен состав полученных продуктов. Исследовано влияние инициирующих добавок (ферросфер летучих зол ТЭЦ) и соотношения уголь/мазут в исходном сырье на выход дисциллятных фракций в ходе крекинга.

Проведен совместный крекинг механообработанного бурого угля и мазута, изучен состав полученных продуктов. Установлено, что механообработка угля позволяет увеличить выход жидких продуктов пиролиза и улучшить их качество.

Проведен совместный крекинг бурого угля и мазута в присутствии изопропилового спирта. Изучен состав полученных продуктов.

Предложена термомеханическая модель, основанная на физических представлениях о движении континуума дислокаций, а также модель зарождения и распространения пластических сдвигов для описания "медленных" течений типа полос Людерса. Проведены двумерные расчеты распространения полос Людерса при различных скоростях и температурах деформирования образца из стали марки HSLA-65 при сжатии. Результаты расчетов хорошо согласуются с экспериментальными данными.

На 3-секционной электрокаротажной модели "глина - песок - глина" получены диаграммы потенциалов самополяризации (ПС) и производной ПС с различными электродами. Установлено, что для модели, насыщенной водным раствором хлорида натрия и находящейся в контакте со щелочным фильтратом бурового раствора, воспроизводимые диаграммы ПС получаются только с электродами второго рода, в частности, с хлоридными ионоселективными или хлорсеребряными электродами.

В книге дан анализ современного состояния и тенденций развития вакуумной микро- и наноэлектроники. Рассмотрены физико-химические основы процесса создания нового класса автоэмиссионных наноструктур на базе на-нопористого анодного оксида алюминия. Приведены результаты исследований их геометрических параметров, элементного состава и эмиссионных характеристик. Представлена принципиально новая интегральная технология создания наноструктурных автоэлектронных микроприборов и систем их межсоединений на основе тонких пленок вентильных металлов и их анодных оксидов. Изложены физические основы процедуры моделирования и расчета характеристик этих микроприборов. Приведены их экспериментальные и расчетные характеристики. Предназначается для научных и инженерно-технических работников, аспирантов и студентов старших курсов, специализирующихся в области физической электроники, микро- и наноэлектроники.

Рассмотрены различные типы вакуумных и плазменных приборов физической электроники, особенности их работы и основные характеристики. Последовательно описаны принципы и физические основы работы приборов с сосредоточенным (пролетные и отражательные клистроны, триоды) и распределенным (ЛБВ, ЛОВ, приборы М-типа) взаимодействием. Рассмотрены физические основы использования плазмы для генерирования и усиления СВЧ-колебаний, а также основные принципы работы плазменных приборов. Для студентов, аспирантов, инженеров и научных работников, специализирующихся в области СВЧ-техники и разработки приборов физической электроники.

Справочник содержит основные сведения по теории вакуума, расчету, конструированию и эксплуатации вакуумных систем и их элементов. Приведены физико-механические характеристики материалов, применяемых для изготовления элементов вакуумных систем. Даны примеры конструктивного выполнения вакуумной аппаратуры, методы ее сборки и отладки, правила эксплуатации. Описаны приборы для измерения давления в вакуумных системах и контроля степени их негерметичности. Для инженерно-технических работников, занимающихся конструированием, производство и эксплуатацией вакуумных систем.

Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.

В работе дано описание конструктивных особенностей вакуумной установки «КВАНТ», предназначенной для ионно-магнетронного напыления покрытий с нанокристаллической структурой. Приводятся технические характеристики установки, описание некоторых методов напыления и результаты исследований структуры и механических свойств нанокристаллических покрытий, полученных на установке.

В работе приводятся конструкция и исследования двухпучкового газового ионного источника серии «Планар», предназначенного для использования в вакуумно-плазменных напылительных системах. В основе конструкции ионного источника положен принцип работы ускорителя с замкнутым дрейфом электронов и узкой зоной ускорения (УЗДУ). Эмиссионная поверхность источника представляет собой узкую непрерывную щель, вытянутую в длину, образуя два протяженных пучка ионов. Длина пучков варьируется от 100 до 2300 мм в зависимости от применения источника. Источник обеспечивает энергию ионов до 8 кэВ и плотность тока до 1 мA/см2. Приводятся параметры источника.

Для промышленного производства теплоотражающих покрытий (ТОП) на архитектурном стекле изготовлена установка ТОПаз-3М со шлюзованием кассеты двухстороннего размещения стекла и системой транспортировки через рабочую камеру. Максимальный размер листового стекла - 2750x1605 мм. Установка имеет автоматическую систему диагностики и управления работой вакуумного и технологического оборудования. Длительность цикла - 20-25 минут в режиме "зеркало", 40-60 минут в режиме "низкоэмиссионное стеклоTiO2", 25-30 минут в режиме "низкоэмиссионное стекло SnO2". Представлены технические характеристики установки, технологические параметры нанесения ТОП-состава TiO2-Ag-TiO2, SnO2-Ag-SnO2, а также оптические свойства полученных многослойных покрытий в видимом и инфракрасном диапазонах.

Выполнены измерения тока сильноточного электронного пучка и проведено интегральное во времени наблюдение оптического свечения поверхности взрывоэмиссионных катодов, изготовленных из различных материалов, в вакуумном диоде с планарной конфигурацией промежутка, без внешнего магнитного поля, при длительности импульсов около 5 нс и средней напряженности электрического поля в промежутке около 300 кВ/см. Исследованы катоды: с керамической втулкой и пружинными металлическими контактами, с керамическими пластинами в матрице из порошкового железа, композиционный из порошков кристаллического бора и меди, с лезвиями из листового прессованного графита (графлекса), с лезвиями из фольгированного стеклотекстолита. Сделана оценка тока одного эмиссионного центра, для различных катодов варьирующаяся в пределах примерно от 5 до 20 А. Исследован ресурс работы катодов при частоте следования импульсов 50 Гц.

В книге рассмотрены свойства различных коммутирующих приборов, используемых в качестве управляемых вентилей в сильноточных импульсных генераторах. Приведены специфические параметры промышленных и специально разработанных вентилей. Проведено сравнение этих приборов по основных электрическим и временным параметрам, указаны области наиболее целесообразного применения. Затронут вопрос расширения возможностей вентилей за счет форсирования режима и схемных решений.Книга предназначена для разработчиков сильноточных высоковольтных импульсных устройств, применяемых в электрофизических установках, ускорителях заряженных частиц, радиолокационных станциях и проиозводственных процессах. Книга будет полезна для конструкторов мощных вентильных приборов, аспирантов и студентов соответствющих специальностей.

Описаны основные физические процессы взаимодействия и закономерности эмиссии вторичных заряженных частиц из вещества под воздействием фотонов с энергией 30 кэВ - 10МэВ и нейтронов. Представлены методы расчета характеристик, сформулированы принципы построения конструкций и изложена технология изготовления детекторов прямого заряда, вакуумированных и газонаполненных ионизационных камер для измерения потока нейтронов и мощности дозы излучения в стационарных и импульсных ядерных реакторах, критических сборках, ускорителях заряженных частиц и других современных источниках ионизирующих излучений. Предложены новые методы измерения характеристик нейтронного излучения и диагностирования систем с ядерным реактором. Помещены справочные данные для расчета физических характеристик первичных преобразователей и перечень выпускаемых ионизационных камер и газоразрядных счетчиков ионизирующих излучений. Для научных работников, а также для инженерно-технического персонала, специализирующего в области разработки детекторов и измерения ионизирующих излучений.

Справочник содержит основные сведения по теории вакуума, расчету, конструированию и эксплуатации вакуумных систем и их элементов. Приведены физико-механические характеристики материалов, применяемых для изготовления элементов вакуумных систем. Даны примеры конструктивного выполнения вакуумной аппаратуры, методы ее сборки и отладки, а также правила эксплуатации основных видов вакуумного оборудования. Описаны приборы для измерения давления в вакуумных системах, рассмотрены методы определения негерметичности вакуумных систем, а также методы измерения и расчета основных параметров вакуумных систем. Для инженерно-технических работников, занимающихся созданием и эксплуатацией вакуумных систем.

В книге рассмотрены особенности применения и методы нанесения тонких пленок при производстве полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Описаны принципы действия современных технологических вакуумных установок с термическими испарительными и ионными распылительными системами. Приведены сведения по их эксплуатации, вакуумной технике, электронно-вакуумной гигиене и технике безопасности.

Вопросы технологии основного производства радиоэлектронной аппаратуры рассмотрены в книге с позиций физико-химической природы технологического воздействия на исходные материалы и заготовки. Применена новая (в отличие от первого издания 1965 г.) систематизация специфических для отрасли физико-химических технологических процессов, объединяющая их в четыре класса: термические и термохимические, химические и электрохимические, вакуумные, печатные и покровные технологические процессы. Каждый класс рассмотрен на базе обширного фактического материала.В книге использованы патентные источники, материалы периодических изданий, стандарты.