Сводный электронный каталог

научно-технических библиотек Томского научного центра СО РАН

Результат поиска

Результаты: 51 - 55 из 4629 для dc.subject any/relevant "магнетронные си ... ( 0.123 сек.)

51
Введение в процессы интегральных микро- и нанотехнологий : учеб. пособие для вузов: в 2 т. — М.; : БИНОМ. Лаборатория знаний , Б.г.
Т. 2 : Технологические аспекты / М. В. Акуленок, В. М. Андреев, Д. Г. Громов. — М.: БИНОМ. Лаборатория знаний, 2011. — 252 с.: ил. — Библиогр.: с. 243-248. — ISBN 978-5-9963-0336-6: 303.60 р.
Во втором томе изложены технологические и конструктивные основы и особенности методов формирования и "сухого" травления на поверхности подложки тонких слоёв локальных областей проводящих, диэлектрических и полупроводниковых материалов в условиях уменьшения размеров элементов до нанометрового диапазона для интегральных технологий микро-и наноэлектроники, оптоэлектроники, микросистемной техники.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
52
Вычислительные методы, алгоритмы и аппаратурно-программный инструментарий параллельного моделирования природных процессов = Computational methods, algorithms and hardware and software tools for parallel modelling of natural processes: научное издание / М. Г. Курносов [и др.] ; отв. ред. В. Г. Хорошевский, рец.: В. М. Ефимов, П. В. Макаров, О. И. Потатуркин; Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН (Новосибирск), Институт теоретической и прикладной механики им. С. А. Христиановича СО РАН (Новосибирск), Институт ядерной физики им. Г. И. Будкера СО РАН (Новосибирск), Институт вычислительной математики и математической геофизики СО РАН (Новосибирск), Институт вычислительных технологий СО РАН (Новосибирск), Институт физики прочности и материаловедения СО РАН (Томск), Институт цитологии и генетики СО РАН. — Новосибирск: СО РАН, 2012. — 355 с.: ил. — (Интеграционные проекты СО РАН). — Авт. указаны на обороте тит. л. — Библиогр.: с. 335-349. — ISBN 978-5-7692-1237-6: 1394.18 р.
В монографии описан комплекс алгоритмических и аппаратурно-программных средств математического моделирования различных физических процессов и природных явлений. Особое внимание уделено задачам физики низко- и высокотемпературной плазмы, нанотехнологий (включая нанофотонику и наноматериалы) и биоинформатики. Отражены основные этапы процесса моделирования, включая разработку математических моделей и последовательных и параллельных методов, проверку их адекватности и реализацию на распределенных вычислительных системах. Монография рассчитана на специалистов в области математического моделирования, параллельных вычислительных технологий, распределенных вычислительных и GRID систем, а также параллельного программирования.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
53
Anders, Andre.
Cathodic Arcs : From Fractal Spots to Energetic Condensation: монография / A. Anders. — New York: Springer, 2008. — IX, 540 с.: ill. — (Springer series on atomic, optical, and plasma physics, 1615-5653). — ISBN 978-0-387-79107-4.
Cathodic Arcs: From Fractal Spots to Energetic Condensation is the first book in over a decade dedicated to the physics and technology of cathodic arcs. It includes a detailed account of arc history, a textbook-like introduction to cathode phenomena, and some basic physics of expanding plasmas; it deals with the infamous macroparticle issue and describes a host of practical plasma filter solutions. In contrast to previous books on cathodic arcs, the focus is on the relation of arc plasmas and their properties to surface modification and thin film deposition. The book contains sections on basic plasma physics and thin film materials science. It also deals with practical issues of coatings such as stress control and the often-underrated issue of the coating's color. By stressing the fractal nature of cathode spots, the theme of fluctuations can be found throughout the book: fluctuations affect all plasma properties and thereby have consequences for plasma-based surface modifications and film growth. Detailed explanations are complemented by compilations of plasma and materials data arranged in Periodic Tables. Cathodic Arcs: From Fractal Spots to Energetic Condensation is written with researchers and advanced students in the fields of materials science and plasma physics in mind. It is suitable both as a reference work for the expert as well as an introduction for newcomers to the interdisciplinary fields of plasma-surface interaction and plasma-assisted deposition of thin films.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
54
Квантовые компьютеры, микро- и наноэлектроника: физика, технология, диагностика и моделирование: [сб. ст.] / отв. ред. А. А. Орликовский. — М.: Наука, 2005. — 414,[1] с.: ил.; 24 см. — (Труды ФТИАН / Рос. акад. наук, Физ.-технол. ин-т ; гл. ред. К. А. Валиев, 0868-7129). — Библиогр. в конце ст. — ISBN 5-02-033950-4: 194.00 р.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
55
Квантовые компьютеры, микро- и наноэлектроника: физика, технология, диагностика и моделирование: [сб. ст.] / отв. ред. А. А. Орликовский. — М.: Наука, 2009. — 177 с.: ил. — (Труды ФТИАН / Рос. акад. наук, Физ.-технол. ин-т ; гл. ред. К. А. Валиев, 0868-7129). — Библиогр. в конце ст. — ISBN 978-5-02-036976-4: 292.50 р.
Сборник, посвященный 20-летию Физико-технологического института РАН, включает в себя статьи по актуальным проблемам микро- и наноэлектроники, микро- и наноэлектромеханики и твердотельных квантовых компьютеров. Рассмотрены перспективы реализации полномасштабных квантовых компьютеров на ионных ловушках в твердотельных структурах, проанализирован перенос электрона в одномерных многоямных структурах. Особое внимание уделено важнейшим вопросам физики и моделирования нанотранзисторов (кремниевые в ультратонком кремнии на изоляторе, туннельные, с графеновым каналом и др.). Исследованы межподзонные оптические переходы в структурах с разрывом запрещенной зоны. Представлены статьи по моделированию электромиграционного разрушения тонкопленочных проводников, прочности границы соединенных материалов в зависимости от их микроструктуры и содержания точечных дефектов, моделированию каналов нейтрализации источников пучков быстрых нейтралов, дается обзор плазменных процессов в технологии МЭМС. Для специалистов в области микро- и наноэлектроники.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи