Сводный электронный каталог

научно-технических библиотек Томского научного центра СО РАН

Результат поиска

Результаты: 26 - 30 из 4511 для dc.subject any/relevant "вакуумная техни ... ( 0.875 сек.)

26
International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum.
Discharges and Electrical Insulation in Vacuum: Proceedings. — : IEEE, 2004. — 301-685 p.: il. — Библиогр. в конце ст. — Author Index: p. 682-685. — ISBN 0-7803-8461-X.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
27
Беляков, Виктор Петрович.
Криогенная техника и технология: научное издание / В. П. Беляков ; рец. В. М. Бродянский. — М.: Энергоиздат, 1982. — 272 с.: ил. — Библиогр.: с. 261-269. — 1.90 р.
В книге рассмотрены основные современные направления развития криогенной техники, показана прогрессивная роль криогеники в решении задач развития таких базовых отраслей промышленности, как энергетика, машиностроение, химия, металлургия. Описаны конструкции криогенных систем и установок, созданных в последние годы в Советском Союзе. рассмотрены научные основы проектирования криогенных систем, дана теория соответствующих процессов. Для инженерно-технических работников, занимающихся вопросами создания и внедрения криогенных систем, дана теория соответствующих процессов.Для инженерно-технических работников, занимающихся вопросами создания и внедрения криогенных систем и оборудования в различных отраслях народного хозяйства.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
28
Всесоюзная конференция по инженерным проблемам термоядерных реакторов.
Тезисы докладов второй всесоюзной конференции по инженерным проблемам термоядерных реакторов (Ленинград, 23-25 июня 1981 г.). — Л.: НИИЭФА, 1981. — 306 с. — 1.20 р.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
29
Всесоюзное совещание по ускорителям заряженных частиц.
Девятое Всесоюзное совещание по ускорителям заряженных частиц (Дубна, 16-18 октября 1984 г.): аннот. докл. — Дубна: Объединенный институт ядерных исследований, 1987. — 176 с.: ил. — 1.70 р.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
30
Берлин, Евгений Владимирович.
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии: монография / Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман. — М.: Техносфера, 2010. — 527 с.: ил. — (Мир материалов и технологий). — Библиогр. в конце гл. — ISBN 978-5-94836-222-9: 550.00 р.
Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи