Метод рентгеноструктурного анализа с использованием асимметричной схемы отражения развит до получения одномерных распределений структурно-чувствительных физических величин по глубине. Из получаемого в эксперименте набора усредненных величин по различным толщинам эффективно отражающего слоя, методика позволяет восстанавливать координатную зависимость этих величин. Методика может быть полезна при изучении физической и химической неоднородностей в поверхностном слое материала, создаваемых закалкой, различными видами поверхностного облучения, поверхностным легированием, наплавкой, нанесением пленок и т. д. В работе она применена для получения распределений по глубине нормальной и касательной микродеформаций, связанных с напряжениями 1-го рода, в подвергнутых электронному облучению образцах никелида титана с плоской поверхностью.

Рассмотрены интерференционные слои, наносимые на шлиф материала с целью получения контраста и изображения структурных составляющих, обеспечивающего возможность автоматического определения характеристик структуры. Изложены физические основы контрастирования с помощью интерференционных слоев. Уделено внимание оптическим характеристикам структуры слоя. Даны рекомендации о выборе материалов для интерференционных слоев. Приведены примеры автоматического определения структурных характеристик и различных источники погрешностей, а также автоматического анализа структуры, выявленной с помощью интерференционных слоев на шлифах различных материалов. Для инженерно-технических работников и специалистов предприятий и организаций различных отраслей промышленности.