В сборнике описывается разработанная в Институте физики высоких энергий АН КазССР аппаратура для автоматизации физического эксперимента по обработке большого массива данных о ядерных взаимодействиях, а также ряд оригинальных приборов для исследования радиационных дефектов в полупроводниках. Большинство разработок выполнено на уровне изобретений, защищено авторскими свидетельствами и ориентировано на решение ряда задач в различных областях науки и техники. Книга рассчитана на научных работников, инженеров, занимающихся автоматизацией исследований и научным приборостроением.

В книге рассматриваются различные аспекты анализа, применяемого для обработки растровых пространственно-временных сигналов. Определяются информационная емкость носителей информации, пространственные характеристики изображений объектов, проводится учет аддитивных шумов и определяется их влияние на сигнал, в том числе при аппроксимации импульсной характеристики линейной зависимостью. Разработаны адаптивные методы формирования порогового уровня сигнала для учета мультипликативных низкочастотных помех. Книга предназначена специалистам, занимающимся вопросами цифровой обработки изображений.

В пособии изложены теоретические основы, техника эксперимента и примеры практического приложения экспериментальных методов исследования различных процессов в химии высоких энергий. Описание методов и приведенные примеры экспериментальных работ рассчитаны на то, чтобы читатель, имеющий общую физико-химическую подготовку, мог освоить эти методы, не пользуясь дополнительной литературой. Для студентов и аспирантов химических вузов, преподавателей и научных работников, а также для студентов других естественно-научных и технических вузов.

Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.

Монография продолжает изложение опубликованных в предыдущих изданиях серии "Исследование напряжений и прочности ядерных реакторов" результатов анализа и исследования проблем прочности и безопасности в процессе конструирования, создания и эксплуатации водо-водяных энергетических реакторов. рассмотренные в предыдущих изданиях методы и критерии обоснования прочности, ресурса и живучести распространены на комплексный анализ безопасности с применением критериев риска возникновения аварийных и катастрофических ситуаций, а также предложены единые подходы к повышению ресурса и безопасности новых поколений реакторов ВВЭР. Для специалистов по проектированию и созданию реакторных установок и разработке научно-технической нормативной документации по прочности и ресурсу, а также для научных работников, аспирантов и студентов.