| 1 |
|
Физико-химические процессы в технологии РЭА: учеб. для студ. вузов по спец. "Конструирование и производство РЭА" / В. Н. Черняев. — М.: Высшая школа, 1987. — 375 с.: ил., табл. — Предм. указ.: с. 367-371. — Библиогр.: с. 365-366. — 1.30.
|
| 2 |
|
Проблемы субмикронной технологии / Рос. АН, Физико-технологический институт; отв. ред. тома А. А. Орликовский. — М.: Наука, 1993. — 113 с.: ил. — (Труды Физико-технологического института РАН / гл. ред. К. А. Валиев, 0868-7129). — Библиогр. в конце ст. — ISBN 5-02-006991-4: 200.00. |
| 3 |
|
Микроэлектроника : учеб. пособие для втузов : в 9-ти кн. / под ред. Л. А. Коледова. — М.; : Высшая школа.
: Физические основы функционирования изделий микроэлектроники / О. В. Митрофанов, Б. М. Симонов, Л. А. Коледов. — М.: Высшая школа, 1987. — 168 с.: ил. — Библиогр.: с. 167. — 0.30.
|
| 4 |
|
Восемь уроков по P-CAD 2001 / М. Я. Мактас. — М.: СОЛОН-Пресс, 2003. — 224 с.: ил. — (Библиотека студента). — ISBN 5-98003-029-8: 58.00.
|
| 5 |
|
Пучки ионов и атомов для управляемого термоядерного синтеза и технологических целей / М. Д. Габович, Н. В. Плешивцев, Н. Н. Семашко. — М.: Энергоатомиздат, 1986. — 249 с.: ил. — Предм. указ.: с. 245-247. — Библиогр.: с. 228-244. — 2.70.
|
| 6 |
|
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии: монография / Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман. — М.: Техносфера, 2010. — 527 с.: ил. — (Мир материалов и технологий). — Библиогр. в конце гл. — ISBN 978-5-94836-222-9: 550.00.
Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
|
| 7 |
|
Проектирование печатных плат в P-CAD 2001 / В. Д. Разевиг. — М.: Солон-Р, 2001. — 557 с.: ил. — (Системы проектирования). — ISBN 5-93455-116-7: 126.00.
|
| 8 |
|
Искусственная эпитаксия - перспективная технология элементной базы микроэлектроники / Е. И. Гиваргизов. — М.: Наука, 1988. — 176 с.: ил. — (Проблемы науки и технического прогресса). — Библиогр.: с. 158-176. — ISBN 5-02-013845-2: 1.90.
|
| 9 |
|
Радиационные методы в твердотельной электронике / В. С. Вавилов [и др.]. — М.: Радио и связь, 1990. — 183 с.: ил. — Библиогр.: с. 174-182. — ISBN 5-256-00741-6: 2.60. |
| 10 |
|
Плазмохимические процессы и оборудование: учеб. пособие / С. Е. Александров, А. А. Уваров; С.-Петерб. гос. политехн. ун-т. — СПб.: Издательство Политехнического университета, 2012. — 391 с.: ил.; 20 см. — (Вакуумная техника). — Библиогр.: с. 386-390. — ISBN 978-5-7422-3668-9: 550.00.
Данное учебное пособие предназначено для сотрудников предприятий, занятых разработкой и изготовлением плазмохимического оборудования для повышения их квалификации путем приобретения компетенций в области плазмохимических технологий травления и осаждения материалов электронной и микросистемной техники. Пособие может быть полезно студентам старших курсов, обучаемых в рамках направлений «Наноматериалы» и «Материаловедение и технология материалов» по профилям, относящимся к технологии изделий микроэлектроники и микросистемной техники. В настоящем учебном пособии обсуждаются принципы построения плазмохимического оборудования, основанного на использовании низкотемпературной плазмы, создаваемой с помощью газовых разрядов при пониженных давлениях, основы процессов травления микроэлектронных структур, закономерности процессов плазмохимического травления и примеры их использования для травления разнообразных материалов, а также плазмохимические процессы осаждения слоев на примере нитрида кремния, как одних из наиболее сложных и трудных для практической реализации.
|