Emerging Applications of Vacuum-Arc-Produced Plasma, Ion and Electron Beams / ed.: E. Oks, I. Brown. — Dordrecht: Kluwer Academic Publishers, 2002. — 233 с.: ill. — (NATO Science Series. II. Mathematics, Physics and Chemistry). — ISBN 1-4020-1066-4.

Плазменные источники интенсивных электронных и ионных пучков на основе разрядов низкого давления с ненакаливаемым катодом в магнитном поле: дис. ... д-ра техн. наук : 05.27.02 / Е. М. Окс; Институт сильноточной электроники СО РАН (Томск). — Томск, 1994. — 271 с. — Для служебного пользования. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 251-271.

Plasma Cathode Electron Sources: Physics, Technology, Applications / E. M. Oks. — Weinheim: Wiley, 2006. — 171 с.: ill. — ISBN 3-527-40634-4.

Плазменные источники интенсивных электронных и ионных пучков на основе разрядов низкого давления с ненакаливаемым катодом в магнитном поле: автореферат дис. ... д-ра техн. наук : 05.27.02 / Е. М. Окс ; офиц. оппоненты: Ю. И. Бельченко, Ю. П. Усов, Г. М. Кассиров; Институт сильноточной электроники СО РАН (Томск), Объединенный институт ядерных исследований. — Томск, 1994. — 34 с. — Для служебного пользования. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 26-30.

Источники электронов с плазменным катодом: физика, техника, применения / Е. М. Окс; Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники. — Томск: Издательство научно-технической литературы, 2005. — 216 с.: ил. — Библиогр. в конце глав. — ISBN 5-89503-248-6.