Вопросы проектирования систем формирования мощного лазерного излучения изложены в двух частях. Первая из них содержит теоретические основы пассивных систем формирования, описание сигналов управления линейными адаптивными системами, методы автоматической союстировки оси мощного лазерного излучения с осью информационного канала, а также методы измерения характеристик мощного лазерного излучения и систем формирования. Во второй части книги рассмотрены вопросы инженерного расчета, проектирования, контроля и технологии изготовления силовых зеркал, являющихся неотъемлемой частью систем формирования мощного лазерного излучения. Для специалистов в области разработки мощных лазерных комплексов. Может быть полезна для студентов и аспирантов, обучающихся по соответствующим направлениям.

Книга посвящена важнейшим разделам современной физики: квантовой электронике, нелинейной оптике и оптике когерентного света. В первой части книги в популярной форме рассматриваются уравнения Максвелла, принцип обратной связи, вынужденное излучение и спектр энергетических уровней, что сопровождается остроумными наглядными примерами. В последующих главах при той же увлекательности и образности научный уровень изложения возрастает. Особое внимание уделяется нелинейным явлениям при взаимодействии поля с веществом, когерентности и другим свойствам лазерного света, безлинзовому воссозданию образа и голографии.Книга предназначена для широкого круга читателей. Она также будет полезна научным работникам, преподавателям и студентам вузов.

На примере нелинейно-оптического материала ZnGeP2 рассмотрены основные проблемы развития технологии получения оптических материалов для новых функциональных узлов в средствах и системах современного дистанционного мониторинга и представлены результаты исследований, выполненных лабораторией оптических кристаллов ИОМ СО РАН.Показано, что исследования причин оптических потерь в кристаллах ZnGeP2 и последовательное их устранение обеспечивают достаточно надежное получение монокристаллов с высоким оптическим качеством, позволяющим их эксплуатацию в условиях экстремальной интенсивности оптических пучков рабочего излучения.Дана краткая характеристика основных технологических и производственных возможностей лаборатории оптических кристаллов ИОМ СО РАН.