| 1 |
|
Химия и технология термостойких неорганических покрытий / Г. И. Журавлев. — Л.: Химия, 1975. — 198, [2] с.: ил., табл. — Библиогр. в конце глав. — 0.64.
|
| 2 |
|
Неорганические и органосиликатные покрытия: труды Всесоюзного совещания. — Л.: Наука. Ленинградское отделение, 1975. — [481] с.: ил. — Библиогр. в конце ст. — 2.63.
|
| 3 |
|
Разработка спеченных Ti-Cu, Ti-Si катодов для ионно-плазменного нанесения наноструктурных нитридных покрытий: дис. ... канд. техн. наук : 05.16.09 / А. В. Гурских ; науч. рук. Г. А. Прибытков; Институт физики прочности и материаловедения СО РАН (Томск). — Томск, 2012. — 150 с.: граф. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 134-146.
|
| 4 |
|
Ионно-плазменное наноструктурирование поверхностных слоев высокопрочных сталей и сплавов и нанесение наноструктурных покрытий: дис. ... д-ра техн. наук : 01.04.07 / В. П. Сергеев ; научный консультант В. Е. Панин; Институт физики прочности и материаловедения СО РАН (Томск). — Томск, 2011. — 539 с.: цв.ил. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 475-512.
|
| 5 |
|
В работе приводятся конструкция и исследования двухпучкового газового ионного источника серии «Планар», предназначенного для использования в вакуумно-плазменных напылительных системах. В основе конструкции ионного источника положен принцип работы ускорителя с замкнутым дрейфом электронов и узкой зоной ускорения (УЗДУ). Эмиссионная поверхность источника представляет собой узкую непрерывную щель, вытянутую в длину, образуя два протяженных пучка ионов. Длина пучков варьируется от 100 до 2300 мм в зависимости от применения источника. Источник обеспечивает энергию ионов до 8 кэВ и плотность тока до 1 мA/см2. Приводятся параметры источника.
|