| 1 |
|
Методом атомно-силовой микроскопии исследованы закономерности гофрирования тонких пленок Al на подложке Si с подслоем полистирола при термическом воздействии. Измерение амплитуды и длины волны складок позволило выявить стадийность процесса гофрирования при различных температурах. Показано, что эволюция складок гофра в процессе отжига регулируется периодическим распределением нормальных и касательных напряжений вдоль границы раздела пленка-подслой.
|
| 2 |
|
Общие закономерности деформации и разрушения тонких неорганических пленок и биологических мембран: дис. ... канд. физ.-мат. наук : 01.04.07 / А. И. Хохлова ; науч. рук. А. В. Панин; Институт физики прочности и материаловедения СО РАН (Томск). — Томск, 2012. — 183 л.: ил. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 167-183.
|
| 3 |
|
Влияние структурных дефектов на электронные свойства поверхности и границ раздела в сплавах Гейслера: научное издание / С. С. Кульков [и др.]; Институт физики прочности и материаловедения СО РАН (Томск), Томский государственный университет (Томск) // Физическая мезомеханика. — 2006. — Том9, NСпец. вып. . — С. 33-36. — ISSN 1029-9599. Представлены результаты первопринципных расчетов электронной структуры сплавов Гейслера Co2MnGa(Si) и Ni2MnGa, а также их тонких пленок на полупроводниковых подложках. Анализируется влияние структурных дефектов на электронную структуру и магнитные свойства в объеме, на поверхности и границах раздела.
|
| 4 |
|
Роль локальной кривизны внутренних и внешних границ раздела в процессах массопереноса, обусловливающих деградацию тонких пленок: научное издание / А. В. Панин, А. Р. Шугуров; Институт физики прочности и материаловедения СО РАН (Томск) // Физическая мезомеханика. — 2013. — Том16, N3 . — С. 95-101. — ISSN 1029-9599. Методами атомно-силовой и сканирующей электронной микроскопии исследованы механизмы деградации тонких пленок в процессе термического отжига. Выявлены основные факторы, оказывающие влияние на развитие процессов массопереноса в многослойных структурах при повышенных температурах. Показано, что кривизна поверхности и внутренних границ раздела является движущей силой массопереноса, обусловливающего распад тонких пленок, перераспределение легирующих элементов и образование силицидов.
|
| 5 |
|
Effect of Local Curvature of Internal and External Interfaces on Mass Transfer Responsible for Thin Film Degradation: научное издание / А. В. Панин, А. Р. Шугуров; Институт физики прочности и материаловедения СО РАН (Томск) // Physical Mesomechanics. — 2013. — ТомV.16, N4 . — С. 348-354. — ISSN 1029-9599.
|