| 101 |
|
Физическая химия. Современные проблемы. 1984: Ежегодник / под общ. ред. Я. М. Колотыркина. — М.: Химия, 1984. — 246, [2] с.: ил., табл. — Библиогр. в конце ст. — 2.60. |
| 102 |
|
Вопросы теории атомных столкновений : межвуз. сб. / ЛГУ им. А. А. Жданова ; под ред. Г. Ф. Друкарева. — Л.; : Издательство Ленинградского университета.
:. — Л.: Издательство Ленинградского университета, 1980. — 180 с. — 1.90.
|
| 103 |
|
Электрохимия: 1965 / Всесоюзный институт научной и технической информации. — М., 1967. — 228, [3] с.: ил., табл. — (Химия) ; (Итоги науки). — Библиогр. в конце ст. — 1.12. |
| 104 |
|
Растворитель как средство управления химическим процессом / Ю. Я. Фиалков. — Л.: Химия, 1990. — 236, [4] с.: ил., табл. — Предм. указ.: с. 231-234. — Библиогр.: с. 208-219. — ISBN 5-7245-0226-7: 3.20.
|
| 105 |
|
Термические превращения смол и асфальтенов тяжелых нефтей: дис. ... канд. хим. наук : 02.00.13 / Д. Е. Дмитриев [научный руководитель А. К. Головко]; Институт химии нефти СО РАН. — Томск, 2010. — 123 с. — С диссертацией можно ознакомиться в научной библиотеке Института химии нефти СО РАН. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 112-123.
|
| 106 |
|
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии: монография / Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман. — М.: Техносфера, 2010. — 527 с.: ил. — (Мир материалов и технологий). — Библиогр. в конце гл. — ISBN 978-5-94836-222-9: 550.00.
Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
|
| 107 |
|
Взаимодействие водорода с металлами / Институт физической химии АН СССР; отв. ред. А. П. Захаров. — М.: Наука, 1987. — 294, [2] с.: ил., табл. — (Физика, химия и механика поверхности). — Библиогр. в конце глав. — 4.20. |
| 108 |
|
Радиационные процессы в плазме / Дж. Бекефи ; пер. с англ. М. Д. Райзера, под ред. А. А. Веденова. — М.: Мир, 1971. — 438 с.: ил. — 2.81.
|
| 109 |
|
Микрокалориметрия / Л. И. Анатычук, О. И. Лусте. — Львов: Вища школа, 1981. — 157, [3] с.: ил., табл. — Библиогр.: с. 125-158. — 1.80.
|
| 110 |
|
Понятия и основы термодинамики / И. Р. Кричевский. — 2-е изд., пересмотр. и доп. — М.: Химия, 1970. — 438, [2] с.: ил. — Предм. указ.: с. 433-439. — Библиогр. в конце глав. — 1.81.
|