| 1 |
|
Разработка ионно-плазменных методов нанесения покрытий и азотирования перспективных конструкционных материалов: автореферат дис. ... канд. техн. наук : 01.04.13 / А. С. Мамаев ; науч. рук. Н. В. Гаврилов, офиц. оппоненты : В. В. Овчинников, Е. М. Окс; Институт электрофизики УрО РАН, Институт сильноточной электроники СО РАН. — Екатеринбург, 2012. — 23 с. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 21-23.
|
| 2 |
|
Нанесение прозрачных проводящих покрытий на основе оксида цинка методом магнетронного распыления: автореферат дис. ... канд. техн. наук : 05.27.02 / С. В. Работкин ; науч. рук. Н. С. Сочугов, офиц. оппоненты: Е. М. Окс, С. Н. Янин; Институт сильноточной электроники СО РАН (Томск), Институт электрофизики УрО РАН (Екатеринбург). — Томск, 2009. — 22 с. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 21-22.
|
| 3 |
|
Нанесение прозрачных проводящих покрытий на основе оксида цинка методом магнетронного распыления: дис. ... канд. техн. наук : 05.27.02 / С. В. Работкин ; науч. рук. Н. С. Сочугов; Институт сильноточной электроники СО РАН. — Томск, 2009. — 146 с. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 138-146.
|
| 4 |
|
Источник широких электронных пучков на основе разряда с самонакаливаемым полым катодом для азотирования сталей и сплавов: автореферат дис. ... канд. техн. наук : 01.04.13 / А. И. Меньшаков ; науч. рук. Н. В. Гаврилов, офиц. оппоненты : С. Ю. Соковнин, Е. М. Окс; Институт электрофизики УрО РАН (Екатеринбург), Институт сильноточной электроники СО РАН (Томск). — Екатеринбург, 2013. — 22 с. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 21-22.
|
| 5 |
|
Источник широких электронных пучков на основе разряда с самонакалиевым полым катодом для азотирования сталей и сплавов: дис. ... канд. техн. наук : 01.04.13 / А. И. Меньшаков ; науч. рук. Н. В. Гаврилов; Рос. АН, Урал. отд-ние, Институт электрофизики. — Екатеринбург, 2013. — 160 с. — На правах рукописи. — Библиогр.: с.145-160.
|
| 6 |
|
Свойства автоэмиссионных катодов из углеродных материалов в условиях технического вакуума: автореферат дис. ... канд. техн. наук : 01.04.13 / А. С. Чепусов ; науч. рук. С. О. Чолах, науч. конс. С. Р. Корженевский, офиц. оппоненты : В. М. Березин, И. С. Егоров; Уральский федеральный ун-т им. первого Президента России Б. Н. Ельцина, Ин-т сильноточной электроники СО РАН. — Екатеринбург, 2018. — 23 с. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 25-27.
|
| 7 |
|
Свойства автоэмиссионных катодов из углеродных материалов в условиях технического вакуума: дис. ... канд. техн. наук : 01.04.13 / А. С. Чепусов ; науч. рук. С. О. Чолах; Ин-т электрофизики УрО РАН, Уральский федеральный ун-т им. первого Президента России Б. Н. Ельцина. — Екатеринбург, 2018. — 133 с. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 124-133.
|
| 8 |
|
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии: монография / Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман. — М.: Техносфера, 2010. — 527 с.: ил. — (Мир материалов и технологий). — Библиогр. в конце гл. — ISBN 978-5-94836-222-9: 550.00.
Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
|
| 9 |
|
Ионно-плазменное оборудование и процессы нанесения тонкопленочных функциональных покрытий на подложки большой площади: автореферат дис. ... д-ра техн. наук : 05.27.02 / Н. С. Сочугов ; науч. конс. Н. Н. Коваль, офиц. оппоненты : Н. В. Гаврилов, В. А. Бурдовицин, Г. Ю. Юшков; Институт сильноточной электроники СО РАН, Уфимский гос. авиацион. техн. ун-т. — Томск, 2012. — 42 с.: ил. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 37-42.
|
| 10 |
|
Исследование электрического взрыва проводников и его применение в электрофизических установках: автореферат дис. ... д-ра техн. наук : 01.04.13 / В. С. Седой ; науч. конс. А. В. Лучинский, офиц. оппоненты: В. В. Лопатин, В. В. Иванов, В. Г. Иванов; Институт сильноточной электроники СО РАН (Томск), Томский политехнический университет (Томск), Научно-исследовательский институт высоких напряжений (Томск), Институт гидродинамики им. М. А. Лаврентьева СО РАН (Новосибирск). — Томск, 2003. — 32 с. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 29-32.
|