Сводный электронный каталог

научно-технических библиотек Томского научного центра СО РАН

Результат поиска

Результаты: 31 - 40 из 1019 для dc.subject any/relevant "ТОНКИЕ ПЛЕНКИ У ... ( 0.275 сек.)

31
Рентгенодифракционные исследования никелида титана с наноструктурными пленками из Мо на поверхности: научное издание / М. Г. Дементьева [и др.]; Институт физики прочности и материаловедения СО РАН (Томск) // Перспективные материалы. — 2009. — NСпец. вып. (7) . — С. 98-102. — ISSN 1028-978X.
Методом рентгеноструктурного анализа исследованы структурно-фазовые состояния в поверхностных слоях никелида титана с покрытиями из Мо толщиной 200 нм и 500 нм, сформированными методом магнетронного напыления. Материал в покрытии имеет однокомпонентный химический состав и однофазную ОЦК-кристаллическую структуру Мо. Исследованы особенности тонкой атомно-кристаллической структуры материала в покрытии и в слоях подложки, прилежащих к нему. Установлено, что кристаллическая ОЦК решетка Мо в покрытии характеризуется наличием ориентированных микродеформаций разных знаков: сжатия вдоль поверхности образца и растяжения перпендикулярно к ней. Кристаллическая структура В2 фазы никелида титана в области, сопряженной с покрытием, имеет увеличенный параметр элементарной ячейки. измеренный в направлении нормали к поверхности.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
32
Альфорд, Терри Л.
Фундаментальные основы анализа нанопленок / Т. Л. Альфорд, Л. К. Фельдман, Д. В. Майер ; пер. с англ. А. Н. Образцова, М. А. Долганова ; науч. ред. А. Н. Образцов; МГУ им. М. В. Ломоносова, Науч.-образоват. центр по нанотехнологиям. — М.: Научный Мир, 2012. — 392 с.: ил. — (Фундаментальные основы нанотехнологий). — Библиогр. в конце глав. — ISBN 978-5-91522-225-9: 588.37.
Книга посвящена рассмотрению проблем фундаментальной физики, лежащих в основе методов, используемых для изучения поверхностей и приповерхностных слоев материалов. Появление и развитие таких аналитических методик, основанных на явлениях взаимодействия частиц и излучения с веществом, обусловлено, прежде всего, ростом технологических потребностей. Ионная имплантация, электронные пучки и лазеры используются также и для модификации состава и структуры материалов. Осаждение потоков частиц, получаемых с помощью различных источников, позволяет получать пленочные материалы. Так, эпитаксиальные слои могут быть получены с использованием молекулярных пучков, а также с помощью физического и химического газофазного осаждения. Методики, основанные на изучении взаимодействия с частицами, позволяют, например, обеспечить контролируемые условия окислительных и каталитических реакций. Ключом к успешному использованию данных методик является широкая доступность аналитических технологий, чувствительных к составу и структуре твердых тел на нанометровом масштабе. Книга предназначена для специалистов в области материаловедения и инженеров, интересующихся использованием различных видов спектроскопии и/или спектрометрии. Для людей, занимающихся анализом материалов, которым необходима информация о технике, имеющейся за пределами и лабораторий; и особенно для студентов старших курсов и выпускников, собирающихся использовать это новое поколение аналитических методов в своей научной работе.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
33
Татаренко, Николай Иванович.
Автоэмиссионные наноструктуры и приборы на их основе / Н. И. Татаренко, В. Ф. Кравченко. — М.: ФИЗМАТЛИТ, 2006. — 192 с.: ил. — Библиогр.: с. 178-192. — ISBN 5-9221-0695-3: 181.50.
В книге дан анализ современного состояния и тенденций развития вакуумной микро- и наноэлектроники. Рассмотрены физико-химические основы процесса создания нового класса автоэмиссионных наноструктур на базе на-нопористого анодного оксида алюминия. Приведены результаты исследований их геометрических параметров, элементного состава и эмиссионных характеристик. Представлена принципиально новая интегральная технология создания наноструктурных автоэлектронных микроприборов и систем их межсоединений на основе тонких пленок вентильных металлов и их анодных оксидов. Изложены физические основы процедуры моделирования и расчета характеристик этих микроприборов. Приведены их экспериментальные и расчетные характеристики. Предназначается для научных и инженерно-технических работников, аспирантов и студентов старших курсов, специализирующихся в области физической электроники, микро- и наноэлектроники.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
34
Микроэлектроника [Текст] / Рос. акад. наук, Отд-ние инф. технологий и выч. систем РАН; Российская Академия наук (М.). — 1972-. — М.: Наука, 1972-. — Периодичность: 6 в год (раз в два месяца). — Схема доступа: http://www.maik.ru. — ISSN 0544-1269.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
35
Петербургский журнал электроники / Российский научно-исследовательский институт "Электростандарт"; Российский научно-исследовательский институт "Электростандарт". — 1993-. — СПб.: Электронстандарт, 1993-. — Периодичность: 4 в год (ежеквартально).
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
36
Соловьев, Андрей Александрович.
Устройства со скрещенными электрическим и магнитным полями для нанесения тонкопленочных покрытий на подложки большой площади: дис. ... канд. техн. наук : 05.27.02 / А. А. Соловьев ; науч. рук. Н. С. Сочугов; Институт сильноточной электроники СО РАН. — Томск, 2007. — 210 с. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 196-210.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
37
Дерягин, Борис Владимирович.
Теория устойчивости коллоидов и тонких пленок / Б. В. Дерягин; Институт физической химии АН СССР (Москва). — М.: Наука, 1986. — 204, [4] с.: ил., табл. — Библиогр. в конце глав. — 1.70.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
38
Functional thin films and functional materials: New concepts and technologies / ed.: D. Shi. — Berlin: Springer, 2003. — 443 с.: ill. — (Springer series in materials science). — Bibliogr. at the end of the chapters. — ISBN 3-540-00111-5: 5094.11.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
39
Wasa, Kiyotaka.
Thin film materials technology: Sputtering of compound materials / K. Wasa, M. Kitabatake, H. Adachi. — Norwich: William Andrew, 2004. — 518 с.: ill. — (Related electronic materials and process technology). — Ind.: p. 501-518. — Bibliogr. at the end of the chapters. — ISBN 3-540-21118-7: 5680.00.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи
40
Российская конференция по электронной микроскопии.
XVIII Российская конференция по электронной микроскопии: Тезисы докладов / Рос. АН, Науч. совет по электронной микроскопии, Ин-т проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов, Ин-т кристаллографии. — Черноголовка: Богородский печатник, 2000. — 338 с.: ил. — Авт. указ.: с. 331-338. — ISBN 5-89589-020-2: 76.80.
Детальное описание | Добавить в корзину | Похожие записи