| 181 |
|
Растворитель как средство управления химическим процессом / Ю. Я. Фиалков. — Л.: Химия, 1990. — 236, [4] с.: ил., табл. — Предм. указ.: с. 231-234. — Библиогр.: с. 208-219. — ISBN 5-7245-0226-7: 3.20.
|
| 182 |
|
Статистическая теория диссипативных процессов в газах и жидкостях / В. Я. Рудяк ; отв. ред. Н. Г. Преображенский; АН СССР, Сиб. отд-ние, Институт теоретической и прикладной механики. — Новосибирск: Наука. Сибирское отделение, 1987. — 272 с.: ил. — Библиогр.: с. 251-270. — 3.40.
|
| 183 |
|
Термические превращения смол и асфальтенов тяжелых нефтей: дис. ... канд. хим. наук : 02.00.13 / Д. Е. Дмитриев [научный руководитель А. К. Головко]; Институт химии нефти СО РАН. — Томск, 2010. — 123 с. — С диссертацией можно ознакомиться в научной библиотеке Института химии нефти СО РАН. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 112-123.
|
| 184 |
|
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии: монография / Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман. — М.: Техносфера, 2010. — 527 с.: ил. — (Мир материалов и технологий). — Библиогр. в конце гл. — ISBN 978-5-94836-222-9: 550.00.
Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
|
| 185 |
|
Радиационные процессы в плазме / Дж. Бекефи ; пер. с англ. М. Д. Райзера, под ред. А. А. Веденова. — М.: Мир, 1971. — 438 с.: ил. — 2.81.
|
| 186 |
|
Структура и характеристики ионов в горячей плазме / Л. А. Вайнштейн, В. П. Шевелько. — М.: Наука. Главная редакция физико-математической литературы, 1986. — 215 с.: ил. — (Физика и техника спектроскопии). — Библиогр.: с. 214-215. — 2.70.
Книга посвящена систематическому изложению универсальных методов расчета радиационных и столкновительных характеристик: сил осцилляторов, вероятностей переходов, сечений скоростей различных процессов взаимодействия электронов с атомами и ионами. Указанные характеристики составляют основу необходимых атомных данных для задач в физике УТС, лазерной спектроскопии, астрофизике, теории атомных спектров и столкновений и т. д. Книга носит справочный характер: методы расчета, как правило, приводятся без вывода, но формулы доводятся до уровня, удобного для программирования на ЭВМ. Дано описание универсальной программы расчета атомных характеристик на языке Фортран.Для специалистов в области исследования лабораторной и астрофизической плазмы - студентов, аспирантов, научных работников.
|
| 187 |
|
Вопросы кинетической теории неравновесных процессов в плазме: сб. ст. / АН СССР, Институт земного магнетизма, ионосферы и распространения радиоволн; отв. ред. Ю. Л. Климонтович. — М.: ИЗМИРАН, 1988. — 215 с.: ил. — Библиогр. в конце ст. — 1.70. |
| 188 |
|
Физика химически активной плазмы / В. Д. Русанов, А. А. Фридман ; отв. ред. В. А. Легасов. — М.: Наука, 1984. — 414, [4] с.: ил., табл. — Библиогр.: с. 394-411. — 3.50.
|
| 189 |
|
Термоэмиссионные дуговые катоды / В. Ф. Гордеев, В. И. Пустогаров. — М.: Энергоатомиздат, 1988. — 193 с.: ил. — Библиогр.: с. 184-192. — ISBN 5-283-03900-5: 2.60.
|
| 190 |
|
Динамика элементарных атомно-молекулярных процессов в газе и плазме: сб. статей / АН СССР, Физический институт им. П. Н. Лебедева; отв. ред. тома В. А. Щеглов. — М.: Наука, 1991. — 206 с.: ил. — (Труды Физического института им. П. Н. Лебедева АН СССР / гл. ред. Н. Г. Басов). — Библиогр. в конце ст. — 8.00. |