| 1 |
|
Светочувствительные полимерные материалы / Б. Беднарж [и др.] ; под ред. А. В. Ельцова. — Л.: Химия, 1985. — 296, [1] с.: ил., табл. — Библиогр.: с. 283-197. — 3.70. |
| 2 |
|
Микролитография. Принципы, методы, материалы : в двух частях / У. Моро. — М.; : Мир.
:. — М.: Мир, 1990. — 605 с.: граф. — Библиогр. в конце глав. — ISBN 5-03-001716-X: 9.12.
|
| 3 |
|
Процессы и установки электронно-ионной технологии: учеб. пособие для вузов по спец. электрон. техн. / В. Ф. Попов, Ю. Н. Горин. — М.: Высшая школа, 1988. — 255 с.: ил. — Предм. указ.: с. 252-253. — Библиогр.: с. 250-251. — ISBN 5-06-001480-0: 1.00.
|
| 4 |
|
Технология микроэлектронных устройств: Справочник / З. Ю. Готра ; рец. Ю. З. Бубнов. — М.: Радио и связь, 1991. — 528 с.: табл. — Библиогр.: с. 526. — ISBN 5-256-00699-1: 4.00.
Рассмотрены механические, химические, ионные, плазменные, электронно-лучевые и другие методы обработки в технологии микроэлектронных устройств. Обобщены данные по выращиванию монокристаллов, диффузии, эпитаксии, ионной имплантации, технологии тонких пленок, литографии, сборке и герметизации. значительное внимание уделено контролю, обеспечению качества и надежности при изготовлении микроэлектронных устройств. Для инженерно-технических работников, мастеров и квалифицированных рабочих, занимающихся производством МЭУ.
|
| 5 |
|
Справочник по микроскопии для нанотехнологии: пер. с англ. / МГУ им. М. В. Ломоносова, Научно-образовательных центр по нанотехнологиям; под ред. Нан Яо, Чжун Лин Ван, науч. ред. И. В. Яминский. — М.: Научный мир, 2011. — 711, [1] с.: ил. — (Фундаментальные основы нанотехнологий : справочники). — На корешке авт. : Нан Яо, Чжун Лин Ван. — Предм. указ.: с. 702-711. — Библиогр.: с. 692-693. — ISBN 978-5-91522-232-7: 1376.00.
Книга посвящена современным методам микроскопии, технике измерений и литографии на наномасштабе. В книге рассмотрены основные экспериментальные методы конфокальной оптической микроскопии, ближнепольной оптической микроскопии, зондовой микроскопии, ионной и электронной микроскопии, рентгеновской спектроскопии, зондовой и электронной литографии и др. В книге изложены основные принципы работы методов микроскопии, области их применения, приведены многочисленные примеры их использования. Разделы книги написаны и переведены учёными с мировым именем - ведущими специалистами в области микроскопии и нанотехнологии.
|
| 6 |
|
Фото-, электронно- и рентгенорезисты / Ю. С. Боков. — М.: Радио и связь, 1982. — 136 с.: ил. — (Библиотека технолога радиоэлектронной аппаратуры). — Библиогр.: с. 129-135. — 0.50.
|
| 7 |
|
Фоторезисты-диффузанты в полупроводниковой технологии / Е. Г. Гук [и др.] ; отв. ред. А. В. Ельцов; АН СССР, Физ.-техн. ин-т им. А. Ф. Иоффе. — Л.: Наука. Ленинградское отделение, 1984. — 117 с.: ил. — Библиогр. в конце ст. — 1.30. |
| 8 |
|
Физические основы микроэлектроники: учеб. пособие для вузов по спец. "Проектирование и технология радиоэлектронных средств" направления "Проектирование и технология электрон. средств" / В. И. Марголин, В. А. Жабрев, В. А. Тупик. — М.: Академия, 2008. — 398, [1] с.: ил.; 22 см. — (Высшее профессиональное образование). — Библиогр.: с. 395. — ISBN 978-5-7695-4227-5: 543.00.
Изложены основы квантовой механики, фрактальной геометрии и фрактальной физики, нелинейной динамики. Рассмотрены физические основы основных технологических процессов микро- и наноэлектроники : получение тонкопленочных структур, создание и перенос литографического изображения, методы модификации поверхностных и объемных структур, основы и методы контроля и метрологии. Для студентов высших учебных заведений.
|
| 9 |
|
Квантовые компьютеры, микро- и наноэлектроника: физика, технология, диагностика и моделирование: [посвящ. 70-летию со дня рождения А. А. Орликовского] / Физико-технологический институт РАН; отв. ред. В. Ф. Лукичев. — М.: Наука, 2008. — 246, [1] с.: ил.; 24 см. — (Труды ФТИАН / Рос. акад. наук, Физ.-технол. ин-т ; гл. ред. К. А. Валиев, 0868-7129). — Библиогр. в конце ст. — ISBN 978-5-02-036641-1: 229.50.
Сборник посвящен актуальным проблемам математического моделирования субмикронных технологий и квантовых наноприборов. Основное внимание уделено наиболее важным проблемам, таким как фотолитография, травление и осаждение тонких пленок, электронная литография, надежность соединений и корпусов микросхем, квантовое поведение нанотранзисторов. Отдельно рассмотрены квантовые модели структур с пониженной размерностью, спиновых структур, методы квантовой обработки и передачи информации, в частности квантовой криптографии. Обсуждается возможность построения полномасштабного твердотельного квантового компьютера на ядерных спинах кремния. Для специалистов в области микро- и наноэлектроники, аспирантов и студентов старших курсов соответствующих специальностей.
|
| 10 |
|
Методы нанолитографии: достижения и перспективы / Г. С. Константинова [и др.]. — Ростов н/Д: Терра-Принт, 2008. — 112 с.: ил. — Предм. указ.: с. 109. — Библиогр.: с. 110-111. — ISBN 978-5-903286-20-1: 95.00.
Монография посвящена изложению основ различных методов нанолитографии. Обсуждаются перспективы использования методов, области их предпочтительного применения и возможности использования в массовом производстве. Книга предназначена тем специалистам, которые приобщаются к работе в сфере нанотехнологий и наноэлектроники, а также аспирантам и студентам соответствующих специальностей. Монография опубликована за счет средств, выделенных по гранту Российского фонда фундаментальных исследований (проект №07-08-02003 э_д).
|