| 46 |
|
Discharges and Electrical Insulation in Vacuum: Proceedings / XVIIIth International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum. — Eindhoven: Eindgoven University of Technology, 1998. — 405-832 p.: il. — Author Index: p. 829-832. — ISBN 0-7803-3953-3.
|
| 47 |
|
Модифицирование поверхности деталей ГТД по условиям эксплуатации / В. С. Мухин, А. М. Смыслов, С. М. Боровский. — М.: Машиностроение, 1995. — 256 с.: ил. — Библиогр.: с. 250-251. — ISBN 5-217-01900-X.
|
| 48 |
|
Газотермическое напыление порошковых материалов для получения защитных покрытий с заданными свойствами: автореферат дис. ... д-ра техн. наук : 05.16.01, 05.02.10 / Л. Х. Балдаев ; науч. консультанты: С. Г. Емельянов, А. Ф. Пузряков, оппоненты: А. А. Афанасьев, А. С. Борсяков, В. Р. Петренко; Курский государственный технический университет (Курск), ОАО "НПО САТУРН". — Курск, 2010. — 32 с.: ил. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 27-32.
|
| 49 |
|
Экспериментальные методы в адсорбции и молекулярной хроматографии / под ред. Ю. С. Никитина, Р. С. Петровой. — 2-е изд., перераб. и доп. — М.: Издательство Московского университета, 1990. — 315, [5] с.: ил., табл. — Библиогр. в конце разд. — ISBN 5-211-00908-8: 3.10. |
| 50 |
|
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии: монография / Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман. — М.: Техносфера, 2010. — 527 с.: ил. — (Мир материалов и технологий). — Библиогр. в конце гл. — ISBN 978-5-94836-222-9: 550.00.
Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
|