| 51 |
|
Физика твердого тела: сборник научных трудов / Институт физики им. Л. В. Киренского СО АН СССР (Красноярск); отв. ред. А. Г. Лундин. — Красноярск, 1974. — [404] с. — 1.50.
Основу настоящего сборника составляют доклады молодых ученых и специалистов из различных городов СССР, которые были прочитаны в Институте физики им. Л. В. Киренского в декабре 1969 года. Доклады сгруппированы по разделам, отражающим основные направления дискуссий. Они представляют интерес для научных работников, аспирантов и студентов старших курсов, специализирующихся в соответствующих областях. Сборник издается по инициативе Совета молодых ученых Института физики им. Л. В. Киренского СО АН СССР.
|
| 52 |
|
Магнитные фазовые переходы: сборник трудов Х международного семинара / Магнитные фазовые переходы (Х ; 23 ноября 2010 г. ; Махачкала) , Институт физики им. Х. И. Амирханова Дагестанского научного центра РАН, Дагестанский государственный университет (Махачкала). — Махачкала, 2010. — [216] с.: граф. — Посвящается 75-летию чл.-кор. РАН И. К. Камилова. — Библиогр. в конце докл. — 130.00.
|
| 53 |
|
Физические основы микроэлектроники: учеб. пособие для вузов по спец. "Проектирование и технология радиоэлектронных средств" направления "Проектирование и технология электрон. средств" / В. И. Марголин, В. А. Жабрев, В. А. Тупик. — М.: Академия, 2008. — 398, [1] с.: ил.; 22 см. — (Высшее профессиональное образование). — Библиогр.: с. 395. — ISBN 978-5-7695-4227-5: 543.00.
Изложены основы квантовой механики, фрактальной геометрии и фрактальной физики, нелинейной динамики. Рассмотрены физические основы основных технологических процессов микро- и наноэлектроники : получение тонкопленочных структур, создание и перенос литографического изображения, методы модификации поверхностных и объемных структур, основы и методы контроля и метрологии. Для студентов высших учебных заведений.
|
| 54 |
|
Разработка плазменных технологий и оборудования для осаждения тонкопленочных теплоотражающих покрытий: автореферат дис. ... канд. техн. наук : 01.04.07 / Д. Д. Баинов ; науч. рук. В. П. Кривобоков, офиц. оппоненты : С. В. Смирнов, В. Ф. Пичугин; Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Научно-производственный центр "Полюс". — Томск, 2013. — 23 с.: ил. — На правах рукописи. — Библиогр.: с. 21-23.
|
| 55 |
|
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии: монография / Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман. — М.: Техносфера, 2010. — 527 с.: ил. — (Мир материалов и технологий). — Библиогр. в конце гл. — ISBN 978-5-94836-222-9: 550.00.
Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
|