| 11 |
|
Труды симпозиума = Low dimensional Systems / Физика низкоразмерных систем и поверхностей (2 ; 3-8 сентября 2010 г. ; Ростов н/Д). — Ростов н/Д: СКНЦ ВШ ЮФУ АПСН, 2010. — 336 с.: ил. — Библиогр. в конце ст. — ISBN 978-5-87872-560-6: 155.00.
|
| 12 |
|
Cathodic Arcs: From Fractal Spots to Energetic Condensation / A. Anders. — New York: Springer, 2008. — IX, 540 с.: ill. — (Springer series on atomic, optical, and plasma physics, 1615-5653). — ISBN 978-0-387-79107-4.
Cathodic Arcs: From Fractal Spots to Energetic Condensation is the first book in over a decade dedicated to the physics and technology of cathodic arcs. It includes a detailed account of arc history, a textbook-like introduction to cathode phenomena, and some basic physics of expanding plasmas; it deals with the infamous macroparticle issue and describes a host of practical plasma filter solutions. In contrast to previous books on cathodic arcs, the focus is on the relation of arc plasmas and their properties to surface modification and thin film deposition. The book contains sections on basic plasma physics and thin film materials science. It also deals with practical issues of coatings such as stress control and the often-underrated issue of the coating's color. By stressing the fractal nature of cathode spots, the theme of fluctuations can be found throughout the book: fluctuations affect all plasma properties and thereby have consequences for plasma-based surface modifications and film growth. Detailed explanations are complemented by compilations of plasma and materials data arranged in Periodic Tables. Cathodic Arcs: From Fractal Spots to Energetic Condensation is written with researchers and advanced students in the fields of materials science and plasma physics in mind. It is suitable both as a reference work for the expert as well as an introduction for newcomers to the interdisciplinary fields of plasma-surface interaction and plasma-assisted deposition of thin films.
|
| 13 |
|
Поверхностные силы и граничные слои жидкостей / Институт физической химии АН СССР. — М.: Наука, 1983. — 228, [4] с.: ил., табл. — Библиогр. в конце ст. — 2.70. |
| 14 |
|
Поверхностные явления в жидкостях / Ленинградский государственный университет им. А. А. Жданова АН СССР. — Л.: Издательство Ленинградского университета, 1975. — 262, [2] с.: ил., табл. — Библиогр. в конце ст. — 1.60. |
| 15 |
|
Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок / Б. С. Данилин. — М.: Энергоатомиздат, 1989. — 327 с.: ил. — Библиогр.: с. 316-324. — ISBN 5-283-03939-0: 3.60.
|
| 16 |
|
Магнитооптика тонких пленок / А. К. Звездин, В. А. Котов. — М.: Наука. Главная редакция физико-математической литературы, 1988. — 189, [3] с.: ил. — (Проблемы науки и технического прогресса). — Библиогр.: с. 186-190. — ISBN 5-02-013846-0: 1.90.
|
| 17 |
|
Поверхностные силы в тонких пленках и устойчивость коллоидов: сборник докладов V Конференции по поверхностным силам / Институт физической химии АН СССР (М.). — М.: Наука, 1974. — 294, [2] с.: ил., табл. — Библиогр. в конце ст. — 2.07. |
| 18 |
|
Теория формирования эпитаксиальных наноструктур / В. Г. Дубровский. — М.: ФИЗМАТЛИТ, 2009. — 350 с.: ил. — (Фундаментальная и прикладная физика). — Библиогр.: с. 338-350. — ISBN 978-5-9221-1069-3: 280.00.
В книге подробно рассматривается кинетическая теория формирования полупроводниковых наноструктур на поверхности твердого тела, описываются основные физические концепции и модели процессов образования эпитаксиальных пленок, квантовых точек и нитевидных нанокристаллов (нановискеров). Излагаются основы теории нуклеации и конденсации и возможности ее применения для моделирования ростовых процессов, морфологии и физических свойств эпитаксиальных наноструктур. Особое внимание уделяется теоретическим моделям формирования квантовых точек и нановискеров полупроводниковых соединений III—V. Результаты расчетов сравниваются с экспериментальными данными, полученными для различных систем материалов и условий осаждения. Никаких предварительных знаний по теории нуклеации, физической кинетике, физике поверхностных явлений не требуется, все необходимые сведения приведены в тексте. Для студентов, бакалавров и аспирантов, специализирующихся в области физики, материаловедения и некоторых других технических дисциплин, а также для ученых и инженеров, желающих глубже понять теоретические основы современной физики и технологии наноструктур.
|
| 19 |
|
Харьковская нанотехнологическая ассамблея : сборник докладов 18-го Международного симпозиума "Тонкие пленки в оптике и наноэлектронике / Национальный Научный Центр "Харьковский физико-технический институт" ; под общ. ред. И. М. Неклюдова, В. М. Шулаева. — Харьков; : ХФТИ.
: Тонкие пленки в оптике и наноэлектронике. — Харьков: ХФТИ, 2006. — 428 с. — ISBN 966-8855-21-3: 1300.00.
|
| 20 |
|
Справочник по технологии микроэлектронных устройств / З. Ю. Готра. — Львов: Каменяр, 1986. — 287 с.: ил. — Библиогр.: с. 284-285. — 1.00.
В справочнике приводятся данные о материалах, которые применяются при производстве микроэлектронных устройств, о способах очистки, механической, химической и электромеханической обработки. Рассмотрены вопросы диффузии, эпитаксии, выращивания монокристаллов полупроводников, вакуумного напыления, литографии и сборки в производстве микроэлектронных устройств. Для специалистов, работающих в области технологии микроэлектронных устройств, может быть полезен учащимся профтехучилищ соответствующего профиля.
|